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    高純三氟化硼-11和高純三氯化硼-11(純度 99.999%以上)

    產品介紹

         三氟化硼(11BF3)等氣體可以通過外延生長、離子注入、摻雜、刻蝕、清洗、掩蔽膜生成等關鍵工藝使硅材料(晶圓基底材料)具備半導體等光電性能,它決定了集成電路、半導體材料的性能、集成度、成品率,被稱為半導體集成電路制造的“糧食”或“源”。還廣泛應用于光電子、化合物半導體、太陽能光伏電池、液晶顯示器等領域。

    質量指

    項目 指標
    11BF3 ≥99.999%
    CO <0.5ppm
    CO2 <0.5ppm
    N2 <1ppm
    O2 <3ppm
    SiF4 <2ppm
    SO2 <2ppm
    硫酸鹽(Sulfates) <0.5ppm
    THC(以甲烷計) <0.5ppm

    應用領域

         廣泛應用于光電子、化合物半導體、太陽能光伏電池、液晶顯示器、光導纖維制造等領域。

     

     

     





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